“中国知识产权高层论坛”由国家知识产权局与相关部委联合主办，邀请国家领导人、部委领导、国内外著名企业领导、驻华使官等出席论坛并演讲，是我国宣传知识产权保护的重要平台，也是我国知识产权领域的高规格论坛。论坛的宗旨是交流知识产权发展动态，探讨知识产权对经济社会发展的作用，推进国家知识产权战略的实施。

　　2010年中国知识产权高层论坛将于4月20日在北京举行。为了扩大论坛的影响和宣传，面向全社会征集中国知识产权高层论坛会标，有关事项通知如下：

　　一、会标题目

　　中文：中国知识产权高层论坛

　　英文：CHINA HIGH-LEVEL FORUM ON INTELLECTUAL PROPERTY ，缩写：CHFIP。

　　二、征集对象

　　面向社会征集，以单位或个人名义不限。

　　三、创作要求

　　1.作品要主题突出，具有鲜明的象征意义，要紧扣"知识产权、高层、论坛"，特别要突出“高层”和“知识产权”两个含义，充分体现知识经济下知识产权在经济社会发展中的重要作用，体现知识产权迅猛发展的时代特点。

　　2.作品要内涵丰富、创意出色、构图新颖、富有美感，具有艺术感染力和视觉冲击力；适合平面宣传的各种用途。

　　3.作品的风格、形式不限，但必须是原创，此前未以任何形式发表。应考虑在各种载体和环境中制作运用，并能以不同的比例尺寸清晰显示。

　　4.作品应采用彩色图形设计，可以与中英文字母相结合，具有一定的构成规则。另外，作品应配一定的文字说明，并注明标准色。

　　四、征集时间

　　应征作品截止日期为3月20日（以电子邮件发送日期为准），评审结果将于4月中旬对外发布。

　　五、提交方式

　　提交报名表（详见附件1）和应征作品电子件。应征作品为A4规格，JPG格式,分辨率大小为300dpi以上，文件大小10M以内。报名表和作品请发到指定邮箱sipodesign@163.com，并请在文件名中注明投稿人姓名。

　　六、奖项设置

　　国家知识产权局保护协调司组织相关专家组成评审委员会，对所有应征作品进行评审，评出5份入围作品、1份中标作品，颁发证书及奖金，入围作品奖金200元，中标作品奖金5000元。

　　七、有关事项

　　1. 本次活动免收报名费，应征作品均不退还，请作者自留底稿。

　　2.应征作品不得违反国家法律，不得含有悖于社会道德风尚的内容。应征作品要求原创,不得侵犯第三方的知识产权,一旦发现有涉嫌侵权行为,立即取消作者应征资格。

　　3.国家知识产权局享有入围和中标作品除署名权外的全部权利，未经允许，不得擅自使用。

　　4.征集活动由国家知识产权局保护协调司主办，外观设计审查部承办。

　　附件：应征作品报名表
 

国家知识产权局保护协调司

二○一○年一月一十四日
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　

联 系 人：沈德钰      高翔

联系电话：62087113    62087128

电子邮箱：sipodesign@163.com

通信地址： 北京市海淀区知春路1号学院国际大厦19室转沈德钰

邮政编码：100191

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